来自汉诺威莱布尼兹大学的科学家Lei Zheng博士等人开发了一种低本钱、用户友爱的制作技能，称为根据紫外发光二极管的显微投影光刻（MPP），用于在几秒钟内快速高分辨率制作光学元件。

  集成光信号分配、处理和传感网络需求小型化根本光学元件，如波导、分光器、光栅和光开关。为完结这一方针，需求可以在必定程度上完结高分辨率制作的办法。

  曲折元件（如弯管和环形谐振器）的制作特别具有挑战性，由于它们需求更高的分辨率和更低的侧壁粗糙度。此外，必定要选用准确操控肯定结构尺度的制作技能。

  现已开发了几种用于亚波长高分辨率制作的技能，如直接激光写入、多光子光刻、电子束光刻、离子束光刻和多米诺光刻。但是，这些技能本钱高、杂乱且耗时。纳米压印光刻是一种新式的仿制技能，很合适高分辨率和高效制作。但是，它需求高质量的母版，一般运用电子束光刻来出产。

  新宣布在《光：先进制作》的一篇论文中，来自汉诺威莱布尼兹大学的科学家Lei Zheng博士等人开发了一种低本钱、用户友爱的制作技能，称为根据紫外发光二极管的显微投影光刻（MPP）

  用于在几秒钟内快速高分辨率制作光学元件。这种办法在紫外光照射下将光掩模上的结构图画转移到涂有光致抗蚀剂的基板上。

  a.选用根据UV-LED的显微镜投影光刻体系的草图。b.工艺链示意图，包含从结构规划到终究投影光刻的索然无味。c.运用MPP制作的高分辨率光栅。d.经过MPP完结的低于200nm的特征尺度。上部和下部所示的线条别离运用贵重的物镜和经济物镜制作。

  MPP体系根据规范光学和光机械元件。运用波长为365nm的极低本钱UV-LED作为光源，而不是汞灯或激光。

  研讨人员开发了一种前处理工艺，以取得MPP所需的结构图画化铬掩模。它包含结构规划、在通明箔上印刷以及将图画转移到铬光掩模上。他们还建立了一个光刻设备来制备光掩模。经过该设备和随后的湿法蚀刻工艺，可以将印刷在通明箔上的结构图画转移到铬光掩模上。

  MPP体系能制作特征尺度低至85纳米的高分辨率光学元件。这与更贵重和更杂乱的制作办法（如多光子和电子束光刻）的分辨率适当。MPP可用来制作微流体设备、生物传感器和其他光学设备。

  研讨人员开发的这种制作办法在光刻范畴取得了重大进展，可用于光学元件的快速和高分辨率结构化。它特别合适于快速原型规划和低本钱制作重要的使用。例如，它可以适用于开发用于生物医学研讨的新式光学设备，或为消费电子科技类产品使用原型化新式MEMS设备。

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